韩国芯片大厂SK海力士14日表示，正考虑使用ASML造价4亿美元的高数值孔径极紫外光（High NA EUV）微影系统设备，来生产下一代存储器芯片。
路透报导，SK海力士技术长Seon-yong Cha 14日在荷兰举行的ASML投资人日上透过预录影片表示，正考虑引进这台全球最昂贵的芯片制造设备。
虽然这台设备造价不斐，但据传台积电和英特尔等公司都已下单。外媒本月稍早引述消息人士报导，台积电订购的High-NA EUV设备首批机件，将在年底前运抵台湾。英特尔则在几个月前就已收到这台设备。
不让台积专美 SK海力士考虑采用ASML的High NA EUV设备
来源：经济日报
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